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什么是半導體真空涂膠烘箱

                                什么是半導體真空涂膠烘箱

產品用途:該產品主要用于半導體行業,HMDS預處理系統通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。    

一、產品規格:

 型號:BD/HMDS-6090   內形尺寸:450×450×450    

 型號:BD/HMDS-6210   內形尺寸:560×640×600  

 

二、 技術參數:

 1、控溫范圍:RT+10~250℃ 

 2、溫度分辨率:0.1℃

 3、溫度波動度:±1℃

 4、達到真空度:小于133Pa

 5、真空度:100Pa~100000Pa

 6、定時范圍:1~9999min

 7、工作室材料:316L

 8、樣品架:2塊、3塊

 9、真空泵:4L/S

 10、電源電壓:220V/50Hz、380V/50Hz三相五線制

 11、總功率:3000W、4500W

 

三、產品特點:

 1、外殼采用冷軋鋼板制造,表面靜電噴塑。內膽、樣品機、連接管路均采用不銹鋼316L材料制成;加熱器均勻分布在內膽外壁四周,內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內物體一目了然。

 2、箱門閉合松緊能調節,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內高真空度。

 3、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。

 

四、HMDS預處理系統操作流程:

 1、首先確定烘箱工作溫度;

 2、預處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內真牢度達到某一高真空度后,開始充入氮氣,充到達到某低真空度后,再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分;

 3、再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達設定時間后,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應;

 4、當達到設定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業過程。

 

五、控制系統:

 1、7.0英寸維綸彩色觸摸屏,三菱PLC控制器;

 2、富士微電腦雙數顯溫度PID控制器,控溫可靠;

 

六、保護系統:

 1、漏電保護;

 2、超溫保護;

 3、缺液保護;

              

七、設備使用條件:

 1、環境溫度:5℃~+28℃(24小時內平均溫度≤28℃)

 2、環境濕度:≤85%R.H

 3、操作環境需要室內通風良好,機器放置前后左右各80公分不可放置東西;

 

八、服務承諾:

 保修十八個月,免費送貨上門,在對該設備安裝調試結束后,在用戶現場對相關技術人員免費做相應的操作培訓,人數不限。

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